About Company

O firmie Tenable®: Tenable, Inc. jest światowym liderem w dziedzinie cyberbezpieczeństwa i zarządzania ekspozycją. Znana z kompleksowych rozwiązań bezpieczeństwa, Tenable dostarcza zaawansowane narzędzia do identyfikowania, priorytetyzowania i korygowania cyberzagrożeń zarówno w środowiskach chmurowych, jak i lokalnych.

Nasze rozwiązania: W ofercie produktów Tenable znajduje się ceniona platforma zarządzania ekspozycją Tenable One, która oferuje dogłębną widoczność na całej powierzchni ataku. Integruje ona bezpieczeństwo chmury, zarządzanie podatnościami, analizę ekspozycji tożsamości oraz bezpieczeństwo OT/IoT. Umożliwia to organizacjom skuteczne zrozumienie i łagodzenie ryzyka cybernetycznego.

Rozpoznanie w branży: Tenable zostało uznane za lidera w zarządzaniu ryzykiem podatności przez Forrester i IDC, co odzwierciedla jego zaangażowanie w dostarczanie najwyższej klasy rozwiązań bezpieczeństwa, które wspierają proaktywne strategie obronne.

  • Bezpieczeństwo w chmurze: Chroń swoje środowiska chmurowe za pomocą rozwiązań do bezpieczeństwa chmury Tenable, w tym ocen podatności i kontroli zgodności.
  • Zarządzanie podatnościami: Wykorzystaj zaawansowaną technologię Tenable do wykrywania podatności w czasie rzeczywistym, co pomaga w priorytetyzowaniu działań naprawczych na podstawie faktycznego ryzyka.
  • Bezpieczeństwo OT: Zabezpiecz swoją technologię operacyjną za pomocą dostosowanych rozwiązań zapewniających pełną widoczność i kontrolę nad środowiskami OT i IoT.
  • Ekspozycja tożsamości: Adresuj podatności w konfiguracjach i uprawnieniach tożsamości za pomocą rozwiązań Tenable dotyczących ekspozycji tożsamości, zmniejszając ryzyko nieautoryzowanego dostępu.

Z ponad 44,000 klientami na całym świecie, Tenable jest zaufanym partnerem organizacji z różnych branż w ochronie ich kluczowych zasobów i zapewnieniu zgodności z odpowiednimi normami i regulacjami.

Skontaktuj się: Dowiedz się, jak Tenable może pomóc wzmocnić pozycję bezpieczeństwa Twojej organizacji, odwiedzając https://www.tenable.com.